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三星V1晶圆厂开始大规模生产,重点生产7nm到未来的3nm工艺

字号+作者: 来源:大学生创业网 2020-03-21 13:08:25 我要评论() 收藏成功收藏本文

据外国媒体报道,三星已开始大规模生产其新的v1晶片厂,成为第一条充分使用6lpp和7lpp制造工艺的纯极端紫外光刻(EUV)生产线。作为三星下一代制造工艺的一个

据外国媒体报道,三星已开始大规模生产其新的v1晶片厂,成为第一条充分使用6lpp和7lpp制造工艺的纯极端紫外光刻(EUV)生产线。作为三星下一代制造工艺的一个重要推动力,euvl可以减少多次曝光,提高设计更精细的芯片的产量。

该工厂的7lpp和6lpp工艺将用于今年第一季度交付的高端移动soc,但合同客户的名称尚不清楚。

值得注意的是,6lpp并不是三星多项目晶圆(MPW)穿梭计划的一部分,也不是指这一过程只适用于三星自己的产品(或不适用于MPW的客户)。

6lpp是三星7lpp节点的发展,它提高了晶体管密度,降低了大约10%的功耗,并与最初为7lpp开发的IP兼容和重用。

此外,6lpp还为渴望投资新IP和多重扩散中断(多重扩散中断)功能的设计师提供智能架构支持。

然而,6lpp可能仅限于一些客户,未来的重点似乎是新的5plple节点,它在功耗、性能等方面具有更大的优势。

据报道,三星v1晶片厂位于韩国华城,毗邻S3,该公司在那里首次大规模生产7lpp工艺芯片。

三星于2018年2月开始生产v1,并在2019年下半年对该芯片进行了测试。现在,该公司将继续扩大v1晶片厂的生产能力。

到2020年年底,euv7lpp以下的生产节点总数预计将是2019年的三倍,v1的累计投资将达到60亿美元。

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